ASML獻利器 台積EUV機台量海放三星
2021.11.02 荷商半導體生產設備商ASML。圖／本報資料照片
半導體生產設備供應大廠艾司摩爾(ASML)，全球獨家供應的極紫外光(EUV)微影設備為各大晶圓代工廠發展先進製程重要關鍵，最新消息指出，ASML南韓京畿道華城建立據點，就近服務三星等韓廠。報導指出，台積電自2017年引進EUV曝光機以來，目前營運著全球最多EUV技術的機台，今年8月，ASML也在矽谷建立大型研發中心和設備測試無塵室，服務英特爾、三星等客戶。
南韓產業通商資源部（The Ministry of Trade Industry and Energy）早在今年5月宣布，ASML未來4年斥資2400億韓圜（約59億元新台幣）於南韓設立EUV再製廠和訓練中心。ASML表示，一個新手工程師培訓成一名技術成熟、可獨立作業的EUV工程師，需要經過18個月的訓練，過往都要前往荷蘭總部培訓，但從去年ASML在南科設立EUV全球技術培訓中心，就此打破慣例。
韓媒《BusinessKorea》報導，ASML 在南韓設立設備維修與工程師培訓中心，預計今年內開工，2024年底完工，到時將有無塵室可培訓，南韓工程師這樣一來工程師就不用前往荷蘭或是台灣培訓，且能就近服務提供設備服務與維修，包括能使用EUV曝光機與深紫外光(DUV)微影設備。
台積電從2017年到現在，引進了80 台 EUV 曝光機，高居全球之冠，也吸引許多半導體客戶青睞下單，目前台積電在5/7奈米製程的營收貢獻已經超過5成，預計3奈米製程延用鰭式場效電晶體(FinFET)架構。台積電先前指出，3 奈米基於EUV技術展現優異的光學能力，與符合預期的晶片良率，以減少曝光機光罩缺陷及製程堆疊誤差，並降低整體成本，2 奈米及更先進製程上將著重於改善極紫外光技術的品質與成本。
相較之下，三星目前擁有的EUV曝光機僅35台，當中還包括用在生產DRAM，甚至連台積電一半都不到，但就在今年7月透露三星3奈米製程正式流片，採用閘極全環電晶體（Gate-all-around，GAA），稍早更透露將在2022年上半年開始量產，在時程稍微領先台積電。記憶體大廠 SK 海力士也宣布，5年投入4.75 兆韓圜(約40億美元)採購 20 台 EUV曝光機，生產新一代DRAM。
至於今年宣布重返晶圓代工業務的英特爾，預計在Intel 4製程導入EUV技術，外媒認為，英特爾取得EUV曝光機數量多寡，將成為先進製程發展關鍵。
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三星集團實際領導人、三星電子副會長李在鎔8月假釋出獄後，立即宣布未來3年投入240兆韓圜(約2050億美元) ，鞏固該公司在後疫情時代科技產業的優勢地位，三星在自家的科技論壇也提及，該公司的3奈米製程不會輸給競爭對手、也就是台積電。李在鎔日前也傳出將前往美國，預計談及170億美元的晶圓廠投資案，甚至打算會面高通執行長Cristiano Amon會面，討論半導體供應吃緊狀況，藉此穩固客戶訂單。
ASML於2020 年在台灣南科設立技術培訓中心，斥資1350 萬歐元（約4.74 億元新台幣），提供技術理論課程與無塵室實機教學等多元化培訓內容，將為 ASML 和客戶培育 360 名 EUV 技術工程師。
ASML表示，2010 年提供第一台 EUV 微影設備原型機給台積電開始，全球微影技術就跨入新紀元，並在2017年交付第一台量產型 EUV 微影系統 TWINSCAN NXE:3400 給台積電，讓台灣EUV 裝機規模領先全球，如今在台南成立EUV 全球技術培訓中心，讓ASML的台灣營運與服務項目多樣化，更實現全力支援客戶先進製程開發與量產的承諾。
文章來源：businesskorea
（中時新聞網 呂承哲）
來源鏈接：https://ctee.com.tw/news/tech/542131.html
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